Molecular Imprints 的Jet and Flash? 壓印光刻 (J-FIL?)技術(shù)將在2014年用于半導體存儲器的生產(chǎn)
得克薩斯州奧斯汀2012年9月24日電 /美通社/ -- 納米圖案成形系統(tǒng)與解決方案的市場與技術(shù)領(lǐng)導商Molecular Imprints, Inc. (MII) 今天宣布，該公司已經(jīng)獲得一份包含多個壓印模板的采購訂單。這些模板將被整合進某半導體設(shè)備公司的光刻機中，包括 MII 專有的最新 Jet and Flash? 壓印光刻 (J-FIL?) 技術(shù)，這項技術(shù)具備先進半導體存儲設(shè)備大批量生產(chǎn)所需的性能。
（圖標：http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO）
Molecular Imprints 總裁兼首席執(zhí)行官 Mark Melliar-Smith 表示：“這份多模板訂單是我們的客戶為 J-FIL在生產(chǎn)前最后準備階段的使用所投上的信任的一票。我們的設(shè)備和商用面具合作伙伴與內(nèi)部團隊已經(jīng)對開發(fā)活動進行了成功協(xié)調(diào)，并在去年取得了巨大的進步，特別是在減少不合格和降低整體擁有成本 (CoO) 方面有了很大的改善。我們期待著J-FIL 技術(shù)下一步的商業(yè)化進程，希望能為這個半導體存儲器接下來幾年的發(fā)展提供支持。”
該公司的 J-FIL? 技術(shù)已經(jīng)展示了24納米圖案結(jié)構(gòu)，其刻線邊緣粗糙度小于2納米（3西格瑪），臨界尺寸均勻性為1.2納米（3西格瑪），可擴展至10納米，使用的是簡單的單一圖案工藝。J-FIL 避免了功率受限的遠紫外線 (EUV) 光源、復雜的光學透鏡和鏡面以及利用超靈敏光致抗蝕劑讓圖案成形的難度，這些固有的擁有成本優(yōu)勢使其非常適合用于半導體存儲器的制造。
Molecular Imprints, Inc.簡介
Molecular Imprints, Inc. (MII) 是高分辨率與低擁有成本納米圖案成形系統(tǒng)和解決方案的技術(shù)領(lǐng)導商。MII 將利用其創(chuàng)新的 Jet and Flash? 壓印光刻 (J-FIL?) 技術(shù)成為半導體存儲設(shè)備大批量圖案成形解決方案的全球市場和技術(shù)領(lǐng)導商，并為新興市場顯示器、清潔能源、生物技術(shù)等行業(yè)的發(fā)展提供支持。MII 通過提供價格適中、可兼容且可擴展至小于10納米規(guī)格的全方位納米圖案成形解決方案來支持納米刻度圖案的形成。垂詢詳情或關(guān)注該公司的微博，請訪問：www.molecularimprints.com。
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