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Atonarp推出創(chuàng)新計(jì)量平臺(tái)Aston

Atonarp Inc.
2021-07-15 21:15 6438
面向半導(dǎo)體、醫(yī)療保健和制藥行業(yè)的分子傳感和診斷產(chǎn)品領(lǐng)先制造商Atonarp今天宣布推出Aston,這是一個(gè)創(chuàng)新的原位半導(dǎo)體計(jì)量平臺(tái),集成了等離子體離子源。

日本東京2021年7月15日 /美通社/ -- 面向半導(dǎo)體、醫(yī)療保健和制藥行業(yè)的分子傳感和診斷產(chǎn)品領(lǐng)先制造商Atonarp今天宣布推出Aston,這是一個(gè)創(chuàng)新的原位半導(dǎo)體計(jì)量平臺(tái),集成了等離子體離子源。

Atonarp推出的Aston是一個(gè)創(chuàng)新的原位半導(dǎo)體計(jì)量平臺(tái),集成了等離子體離子源。
Atonarp推出的Aston是一個(gè)創(chuàng)新的原位半導(dǎo)體計(jì)量平臺(tái),集成了等離子體離子源。

Ascon是半導(dǎo)體生產(chǎn)過程計(jì)量領(lǐng)域的一項(xiàng)重大進(jìn)展,可實(shí)現(xiàn)原位分子過程控制,并有助于現(xiàn)有晶圓廠更高效地運(yùn)行,從而推動(dòng)產(chǎn)量的提高。Ascon是一個(gè)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的強(qiáng)大平臺(tái),從頭開始構(gòu)建,可替代多種傳統(tǒng)工具,并在一整套應(yīng)用中提供前所未有的控制水平,包括光刻、電介質(zhì)及導(dǎo)體蝕刻和沉積、腔室清潔、腔室匹配和氣體減排。

“通過Aston,我們看到某些應(yīng)用中單位流程吞吐量增長(zhǎng)超過40%,這是一項(xiàng)重大改進(jìn)。即使晶圓廠總產(chǎn)量增長(zhǎng)1%,也可以為一家典型的晶圓廠每年增加價(jià)值數(shù)千萬美元的產(chǎn)量,”Atonarp創(chuàng)始人兼首席技術(shù)官Prakash Murthy表示,

“如果將Aston裝配到現(xiàn)有生產(chǎn)工藝機(jī)具上,僅在六到八周內(nèi)即可帶來更高的產(chǎn)量,相比之下,若安裝新的生產(chǎn)設(shè)備則需要長(zhǎng)達(dá)一年的時(shí)間,”Murthy補(bǔ)充道, “這將極大地幫助制造商提高生產(chǎn)水平,并幫助解決當(dāng)前半導(dǎo)體產(chǎn)能短缺的問題?!?/p>

快速可操作端點(diǎn)檢測(cè)(EPD)是運(yùn)行半導(dǎo)體機(jī)具和晶圓廠最有效的方式。到目前為止,EPD尚未能部署在許多工藝步驟中,因?yàn)樗璧脑粋鞲衅鳠o法承受惡劣的工藝或腔室清潔化學(xué)品,否則將遭受冷凝沉積物的堵塞。從歷史上看,晶圓廠被迫在固定時(shí)間進(jìn)行清潔來確保流程按時(shí)完成。相反,Aston通過在流程完成時(shí)進(jìn)行準(zhǔn)確檢測(cè)(包括腔室清潔)來優(yōu)化生產(chǎn),從而將所需的清潔時(shí)間縮短高達(dá)80%。

Aston耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液。它比現(xiàn)有解決方案更穩(wěn)健,采用獨(dú)立雙離子源(包括一個(gè)常規(guī)電子轟擊離子源和一個(gè)無燈絲等離子體發(fā)生器),能夠在半導(dǎo)體生產(chǎn)遇到的惡劣條件下可靠運(yùn)行。這使得Aston能夠以原位狀態(tài)在苛刻環(huán)境中使用。在那種環(huán)境下,傳統(tǒng)電子式離子發(fā)生器會(huì)發(fā)生腐蝕,而且會(huì)迅速出現(xiàn)故障。

與傳統(tǒng)質(zhì)量分析儀相比,使用Aston的維修間隔長(zhǎng)達(dá)100倍。它包括自清潔功能,可消除由于某些工藝中存在的冷凝物沉積而導(dǎo)致的污垢積累。

由于Aston會(huì)生成自己的等離子體,因此在它工作時(shí),過程等離子體可有可無。這比發(fā)射光譜計(jì)量技術(shù)有明顯的優(yōu)勢(shì),因?yàn)楹笳咝枰粋€(gè)等離子體源來工作,這使Aston成為原子層沉積(ALD)和某些可能使用弱等離子體、脈沖等離子體或不使用等離子體進(jìn)行處理的金屬沉積工藝的理想選擇。

Ascon還通過提供量化、可操作的實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)來改進(jìn)工藝一致性,通過人工智能(AI)促進(jìn)強(qiáng)大的機(jī)器學(xué)習(xí)功能,以符合要求最苛刻的工藝應(yīng)用。此外,由于實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)分析和工藝腔室管理的高精度、高靈敏度和可重復(fù)性,這進(jìn)一步改進(jìn)了生產(chǎn)線并提高了產(chǎn)品產(chǎn)量。

Ascon主要用于化學(xué)氣相沉積(CVD)和蝕刻應(yīng)用,這兩種應(yīng)用的年增長(zhǎng)率均超過13%。此款光譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進(jìn)行安裝,也可將其加裝到已運(yùn)行的現(xiàn)有腔室。

Ascon還可與ATI Korea開發(fā)的智能壓力控制器Psi配套使用。經(jīng)過歷時(shí)數(shù)月的綜合可行性評(píng)估,這一組合解決方案最近被三星選購,用于先進(jìn)的工藝控制應(yīng)用。

Aston現(xiàn)可接受評(píng)估和訂購,可進(jìn)行直接購買或通過Atonarp的全球合作伙伴網(wǎng)絡(luò)購買。

消息來源:Atonarp Inc.
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