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QuantumClean和ChemTrace將參加2016年SEMICON China貿(mào)易展

為半導(dǎo)體行業(yè)提供經(jīng)過驗(yàn)證的高純度外包制程工具部件清洗、高性能涂料、修復(fù)和分析與工程服務(wù)的全球領(lǐng)先提供商,以及面向半導(dǎo)體行業(yè)的領(lǐng)先參考微污染分析實(shí)驗(yàn)室將參加2016年SEMICON China貿(mào)易展。
QuantumClean
2016-03-14 22:00 6279
QuantumClean和ChemTrace將參加2016年3月15日至17日在上海的上海新國際博覽中心舉行的2016年SEMICON China貿(mào)易展,展位號(hào)為5154號(hào)。

賓夕法尼亞州夸克敦2016年3月14日電 /美通社/ -- QuantumClean和ChemTrace將參加2016年3月15日至17日在上海的上海新國際博覽中心舉行的2016年SEMICON China貿(mào)易展,展位號(hào)為5154號(hào)。

依托領(lǐng)先的技術(shù)、資源和專長,QuantumClean成為了20nm以下超高純度半導(dǎo)體部件清洗能力方面的開拓者,致力于生產(chǎn)Atomically Clean Surfaces?制程腔體部件。

該行業(yè)對(duì)于更加清潔的制程腔體部件和加強(qiáng)管理的需求不斷加速發(fā)展。QuantumClean于2000年制定了其首個(gè)技術(shù)藍(lán)圖,即預(yù)測了這些趨勢并且確定了面向該行業(yè)日益變化的需求的解決方案。在接下來數(shù)年內(nèi),QuantumClean的研發(fā)與工程團(tuán)隊(duì)不斷提供面向業(yè)內(nèi)最具挑戰(zhàn)的部件清洗問題的創(chuàng)新型解決方案,從而在競爭中領(lǐng)先,并且該團(tuán)隊(duì)近期制定了20納米以下的清洗協(xié)議。在參加2016年Semicon China貿(mào)易展期間,該公司期待與個(gè)體設(shè)備制造商、晶圓廠、原始設(shè)備制造商(OEM)和原部件制造商(OPM)分享其各種能力。

面向QuantumClean眾多領(lǐng)先的半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室、原始設(shè)備制造商和對(duì)清潔具有苛刻要求的原部件制造商客戶,ChemTrace提供制程工具部件清洗效果的獨(dú)立分析驗(yàn)證服務(wù)。

ChemTrace銷售總監(jiān)Surjany Russell表示:“自我們于20世紀(jì)90年代末首次推出無損工具部件分析服務(wù)以來,ChemTrace的分析技術(shù)目前獲得了領(lǐng)先的設(shè)備制造商和原始設(shè)備制造商的廣泛認(rèn)可,成為了分析測試技術(shù)方面的首選。我們將全球業(yè)務(wù)拓展至包括韓國、臺(tái)灣和新加坡的實(shí)驗(yàn)室,這使地區(qū)客戶能直接使用我們的實(shí)驗(yàn)室來進(jìn)行較快周轉(zhuǎn)時(shí)間的分析?!?/p>

QuantumClean和ChemTrace的技術(shù)、商務(wù)和管理團(tuán)隊(duì)將參加這次展會(huì),并且希望有機(jī)會(huì)就當(dāng)前與未來的部件清洗/翻新難題和分析要求探討各種解決方案。

消息來源:QuantumClean
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關(guān)鍵詞: 電腦/電子 半導(dǎo)體
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